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臺積電狂購最先進EUV光刻機-天津營業執照查詢

2020-12-30 05:27:52 標簽:臺積電

        之前有消息稱,臺積電正在籌集更多的資金,為的是向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機,而這些都是為了新制程做準備。

        在不久前舉辦的線上活動中,歐洲微電子研究中心IMEC首席執行官兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示,在與ASML公司的合作下,更加先進的光刻機已經取得了進展。

        Luc Van den hove表示,IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由于此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場,目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能,近年來,IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機,目前目標是將工藝規??s小到1nm及以下。

臺積電狂購最先進EUV光刻機


        目前ASML已經完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計,至于設備的商業化。要等到至少2022年,而等到臺積電和三星拿到設備,之前要在2023年。

        與此同時,臺積電在材料上的研究,也讓1nm成為可能。臺積電和交大聯手,開發出全球最薄、厚度只有0.7納米的超薄二維半導體材料絕緣體,可望借此進一步開發出2納米甚至1納米的電晶體通道。

        據悉,臺積電正為2nm之后的先進制程持續覓地,包含橋頭科、路竹科,均在臺積電評估中長期投資設廠的考量之列。

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